后烘对驻波效应的影响分析
日期：2020年11月20日 09:40 浏览量：[] 作者：肖啸 来源：
| 标题： | 后烘对驻波效应的影响分析 |
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| 基金项目： | |
| 关键词： | 后烘; 驻波效应; 抗蚀剂; 光敏混合物; 显影轮廓; |
| 摘要： | 研究了不同后烘情况下的PAC浓度分布和抗蚀剂的显影轮廓,结果表明适当的后烘可明显减小驻波缺陷,提高光刻质量,而过量的后烘将会导致抗蚀剂图形结构劣化。 |
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