光刻技术发展现状分析

日期：2020年11月18日 08:36 浏览量：[] 作者：肖啸刘世杰来源：

标题：	光刻技术发展现状分析
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关键词：	光刻; 分辨率; 抗蚀剂; 掩模; 曝光;
摘要：	随着半导体工业和纳米技术的飞速发展,对光刻技术提出了越来越高的要求。光学光刻技术经过几十年的发展,在方方面面都取得了巨大进步,同时在现有基础上继续提高也存在着难以克服的困难;而下一代光刻技术(NGL)尽管取得了一些突破,但由于费用、生产率、实现性等问题,投入大规模使用尚待时日。在未来几年内,光学光刻的主流地位仍然不可动摇。本文分析了当前一些光刻技术的发展状况,并对光刻技术的发展趋势进行了展望。
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